超高真空(UHV)是指压力低于10左右的真空状态−9mbar(或10－7Pa）。超高真空条件是许多表面分析技术的必要条件，如X射线光电子能谱（XPS）、俄歇电子能谱（AES）、二次离子质谱（SIMS）或场发射显微镜（FEM）。此外，对纯度有严格要求的薄膜生长和制备技术，如分子束外延（MBE）和原子层沉积（ALD）也依赖于超高压条件。加速器的束线和引力波探测器也在超高压条件下工作。这些真空水平要求使用特殊材料和抽运原理。
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