Univex G.
手套箱系统
我们的标准手套箱系统可以在手套箱的惰性环境下加载和涂覆水分和氧敏感基板。UNIVEX G系统有一个前推拉门，用于连接手套箱。这种滑动门允许操作人员通过手套箱方便地进入工艺室。在需要直接访问的情况下，UNIVEX G在后面有第二个门。
常见的应用程序
- 接触金属化（蒸发金，银，铬，镍，钛等）
- 生物传感器/医疗设备
- 有机电子:有机发光二极管，有机光伏
- 量子点/显示
- 无机-有机钙钛矿形成的电子束和有机蒸发器
- Univex G 250.
- Univex G 350.
- UNIVEX G 450
Univex G 250.
UNIVEX g250是一种方便和经济的解决方案，涂层任务不需要太多的空间。可加工基片，分别为基片支架，总直径可达220毫米。
G 250 |
|
|---|---|
室尺寸 |
宽度270mm深度370mm高度400mm |
热蒸发器 |
最多4种材料 |
有机蒸发器 |
最多4种材料 |
电子束蒸发 |
多口袋或单口袋 |
溅射 |
向上或向下，2 x 2“ |
共沉积 |
蒸发或溅射 |
负载锁定兼容 |
可选 |
真空水平 |
10年中-7mbar |
洁净室兼容 |
是的 |
Univex G 350.
UNIVEX g350结合了紧凑的设计和大量的室内空间。对于许多涂层任务，UNIVEX g350提供了最佳的空间条件和方便的访问工艺组件和基板处理。衬底，分别衬底支架，可加工的总直径约为300毫米。
G 350 |
|
|---|---|
室的大小 |
宽度:370mm深度:390mm高度:500mm |
热蒸发器 |
多达8种材料 |
有机蒸发器 |
最多4种材料 |
电子束蒸发 |
多口袋或单口袋 |
溅射 |
向上或向下:3 × 2”枪，或2 × 3”枪 |
共沉积 |
蒸发或溅射 |
负载锁定兼容 |
可选 |
离子辅助淀积 |
可选 |
真空水平 |
10年中-7mbar |
洁净室兼容 |
是的 |
UNIVEX G 450
由于它的腔室尺寸，UNIVEX g450适用于所有需要很大空间的涂层任务。可加工基片、基片支架，总直径可达400毫米以上。高度为650毫米，真空室也适用于升空应用。
G 450. |
|
|---|---|
室的大小 |
宽度：500毫米深度：500毫米高度：650毫米 |
热蒸发器 |
多达8种材料 |
有机蒸发器 |
多达8种材料 |
电子束蒸发 |
多口袋或单口袋 |
溅射 |
向上或向下:3 × 3”，2 × 4”，4 × 2”或其他 |
共沉积 |
蒸发或溅射 |
负载锁定兼容 |
可选 |
离子辅助淀积 |
可选 |
真空水平 |
10年中-7mbar |
洁净室兼容 |
是的 |
