超高真空(UHV)是指压力低于10左右的真空状态−9mbar（或10－7PA）。许多表面分析技术（如X射线光电子能谱（XPS），螺旋钻电子谱（AES），二次离子质谱（SIMS）或场发射显微镜（FEM）所需的超高真空条件是必需的。还薄膜生长和具有严格纯度要求的制备技术，例如分子束外延（MBE）和原子层沉积（ALD）依赖于UHV条件。加速器的光束线以及引力波检测器也在UHV条件下运行。这种真空水平需要使用特殊材料和泵浦原则。
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